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표면처리기술사
3교시 - 1번
이온주입방법의 종류에서 IBII(Ion Beam Ion Implantation)와 PSII(Plasma Source Ion Implantation)를 장치적 측면에서 비교하여 설명하시오.
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표면처리기술사
3교시 - 2번
저항가열 증발원 중 보트 증발원으로 물질을 증발시키는데 있어서 증발 양상을 4가지로 구분하고 각각의 양상에 따른 증발 원리와 증발 물질에 대하여 설명하시오.
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표면처리기술사
3교시 - 3번
아래 그래프는 단순 금속 양이온의 전위-pH 선도이다. 무전해니켈도금이 차아인산염에 의해서 전착이 가능한 이유를 그래프를 활용하여 설명하시오.
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표면처리기술사
3교시 - 6번
스테인리스 304(18Cr-8Ni) 판재를 용접하여 도금 탱크를 제작할 때 용접부에서 발생할 수 있는 부식 현상에 대하여 설명하고 이 부식을 방지하기 위한 대책을 설명하시오.
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표면처리기술사
4교시 - 2번
도금액을 구성하는 여러 인자 중 pH 변화를 억제하는 완충제가 필요하다. 전기니켈 도금에서 pH 변동을 억제하는 성분은 무엇이며, 그 성분이 도금액 중에서 완충 작용을 하는 원리를 화학식으로 설명하시오.
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표면처리기술사
4교시 - 3번
도금 작업에 있어서 직류전원의 차이에 따라 품질이 결정되는데 직류 전원의 맥류율을 구하는 계산식을 쓰고 직류 전원이 단상반파, 단상전파 및 3상 반파 일 때 크롬도금 층의 균열, 경도 및 맥류율에 대하여 설명하시오.
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